MiScan 系列激光圖形化直寫設備省去了繁瑣的掩膜加工步驟，提供快速，高效和低成本光刻制程的解決方案，尤其對于有光刻Mask外協需求的用戶來說，可以自制相應的Mask降低成本或提升研發速度需求；本產品采用大功率的半導體激光光源，長壽命、低功耗；用戶操作界面友好靈活，支持多種版圖設計格式；可以可以根據自身的需求，方便靈活的選用不同的投影倍率實現多種模式的曝光。

Microlab是小型高精度微圖形化系統，一款名副其實的微結構光刻加工"實驗室"，與傳統光刻設備不同，Microlab屬于直寫系統，無需掩模板，直接將設計數據光刻成“微結構”，工藝靈活。采用四軸運動控制（X-Y-theta-Z）和空間調制（SLM）技術，具有直角坐標、極坐標和在非平基面上光刻微圖形的先進功能。 系統操作方便，支持24/7運行模式，尤其適合于MEMS、微流控、光電子、二元光學器件、光掩模、生物領域的科學研究與研究生實驗之用途。

iGrapher實現了上述希望，突破了一系列關鍵技術難題，在硬件、軟件和工藝上全面提升，實現了大幅面襯底上的微圖形高速直寫，對掩模文件、集成電路文件格式全兼容。采用高速空間光調制器（spatial light modulation），陣列圖形輸入模式（達8k幀），3D導航飛行曝光（3D navigation flying exposure）、納秒時序平鋪曝光（parallelism、 nano-second patterning）技術，專用于光掩模、柔性電子的微圖形（線寬1um-10um）、LIGA工藝、微納模具的高效光刻

平鋪快速直寫NanoCrystal實現了納米結構的快速直寫光刻功能，采用光斑平鋪光刻模式，光斑內調制納米結構分布，光刻效率比電子束快至少500倍，在陣列納米器件等研究上，NanoCrystal的光刻速率，比電子束光刻快5000倍以上，如光刻直徑20um的Fresnel透鏡陣列， 每次曝光一個透鏡，速度可達1000個/s。

以高速光刻直寫為核心技術，創立5五軸自動聯動、可調制光斑內的微納結構的尺度、取向、像素位置和分布。在制版速度、制版圖形的精度、制版幅面具有先進水平，是一款全功能的智能化全息制版系統。在制版功能上，可智能化制備所有類型的全息圖像和衍射圖像光刻模板，最大幅面可達65寸。

UV-納米壓印是一種基于紫外加工的低成本生產型技術。微光學、光電子、顯示、全息行業對UV納米壓印的需求日益增長。

隨著移動終端的超薄化，卷壓（roll-to-roll）制程是生產超薄導光板的必然趨勢。精密超薄導光板的批量生產涉及兩項技術：柔性壓印模具設計與制造、熱壓設備與工藝。

提供微納模具、納米壓印模具、光掩模板、全息制版，導光板模具加工。蘇大維格有業內先進水準的微納光刻和激光精密加工設備。

蘇大維格從事微納光學原版、微納結構器件模具制造的技術優良企業，自主研發的大幅面激光制版設備，寬幅激光直寫設備在技術性能、機臺數量、制版種類和制品性能上位于行業前列。 所有類型的微納結構圖形均可在蘇大維格實現。