UV-納米壓印是一種基于紫外加工的低成本生產型技術。微光學、光電子、顯示、全息行業對UV納米壓印的需求日益增長。
 
在100納米-50微米圖形復制技術中，UV-納米壓印技術已經成為高分辨率、低成本主要復制手段。將是新一代、光電子、柔性印刷電子、3D顯示、觸控和特種光學薄膜的推動性力量。
 
由于在顯示、柔性電子、印刷等領域的產品開發需要，UV納米壓印逐步從平壓平納米壓印光刻（NIL）發展到卷對卷UV納米壓印批量復制。
 

 

蘇大維格在納米壓印領域進行了長達10余年的研究與開發，從最初的平壓平納米壓印拼板設備、卷對卷熱壓設備、到目前UV 卷對卷納米壓印設備（200710132387.6）。

蘇大維格的UV R2R納米壓印有兩種模式：第一、卷對卷UV納米壓印模式，主要用于微納光學薄膜、柔性微納米襯底的批量復制制造。第二，滾壓平納米壓印模式，在平面上步進滾壓，實現納米結構在平面基材上的重復性復制，主要用于大幅面模具制備。
 
公司建有規?；疷V納米壓印制程，千級、萬級凈化車間，用于光學薄膜、導光薄膜、導電薄膜、柔性印刷薄膜、鐳射薄膜的批量制造。
 
蘇大維格的UV納米壓印設備配有精密涂布上膠、精密壓力傳感和溫度傳感控制、UV光強調節系統，可精密控制壓印速度、張力和成型品質，具有很好的基材適應性，適合在塑性基材上直接納米壓印，效率高、成本低、變形量小，同時，建有PET材料表面處理制程。
 
應用領域
 
光學薄膜
立體成像膜
微納結構薄膜
微光學器
Fresnel 透明膜
防窺視膜
全息薄膜
 
技術參數

    速度 5-30  米/分鐘
    幅面： 450mm，800mm，1300mm
    壓印深度：100nm -30um
    模具安裝： 30分鐘